四氟化碳
四氟化碳是目前微電子工業(yè)中用量**的等離子蝕刻氣體，可廣泛應(yīng)用于硅、二氧化硅、氮化硅，磷硅玻璃及鎢等薄膜材料的蝕刻，在電子器件表面清洗，太陽(yáng)能電池的生產(chǎn)，激光技術(shù)、氣相絕緣、低溫制冷、泄漏檢驗(yàn)劑、控制宇宙火箭姿態(tài)，印刷電路生產(chǎn)中的去污劑等方面也大量使用。 |
地 區(qū)：江蘇
等 級(jí)：工業(yè)級(jí)
參考價(jià)格：面議
認(rèn) 證：
規(guī) 格：齊全
供貨數(shù)量：99999999
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發(fā)布日期：2012-11-08 14:42:33
有 效 期：長(zhǎng)期有效
發(fā)布用戶：szjhqt
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